发现极性无机材料有更大的带隙能（图3-3），不乐所预测的热机械性能与实验和计算的数据基本吻合（图3-4）。

同时，不乐它们还被用于通过非共价宿主−客体相互作用来修饰金属纳米粒子的表面性质，不乐包括它们在药物释放、高灵敏度传感器、选择性催化等方面的应用。（b）在25a(左)、不乐25b(中)和26a(右)，一维通道中的水酸阵列。

图二十六、不乐存在于CB[6]基COMS的通道中的水和酸分子（a）在多孔性CBs、25a、25b和26a通道中显示水酸阵列的单晶X射线结构。不乐（d）35a在−78°C的CO2吸附等温线为。不乐（b）球形空腔的空间表示。

在NACs的初始状态下，不乐由于有效的分子填充，不存在空隙或空穴，但由于软大环的结构适应性，在特定客体的吸收上产生了一定的空隙。欢迎大家到材料人宣传科技成果并对文献进行深入解读，不乐投稿邮箱：[email protected].投稿以及内容合作可加编辑微信：cailiaorenvip.。

虽然由分子间非共价相互作用制备的基于大环的COMs已经被广泛报道，不乐但是利用共价键来构建基于大环COMs的构建是相当有限的。

不乐（b）与间隔分子呈波状排列的18B。它允许衬底被重复使用，不乐这大大降低了设备的制造成本。

[4]图2. 传统的外延技术3.新兴的外延生长方法虽然上述传统的外延方法可以大大降低位错密度，不乐但是异质外延层的材料质量仍然不如同质外延层，不乐特别是在高度网格不匹配的系统中。除了光电子器件的应用外，不乐外延生长和lift-off还有潜力被利用来实现非冯诺依曼计算系统在单个芯片上的非冯诺依曼计算系统，不乐其方法是将所需的组件混合集成。

图4.外延lift-off技术[13-16]5.先进外延技术和liftoff技术的应用IBM公司的TASE方法是一种先进的选择性生长技术，不乐使用的是亚100nm的氧化物掩膜，不乐该方法已被用于演示多种III-V器件在CMOS上的无缺陷集成。[22]图7. 先进的外延lift-off和转移技术的异质集成器件6.展望在垂直堆叠多功能集成电路的晶圆片上生长器件品质的外延层，不乐将会大幅减少集成电路的足迹。